摘要：
目的 研究HT机器参数电子枪电流IC、电子枪电压IV和磁控管脉冲PFN的改变对射线质(D20/D10)及射野横截面剂量分布(Profile)的影响规律,以提高对剂量稳定性的QC.方法 改变IC 、IV 和PFN值,采用电离室和TomoDose分别测出各情况下的射线质和Profile,对射线质数据进行Pearson法相关分析,对Profile数据进行比较分析.结果 对于射线质:IV和PFN与射线质均无相关性(P>0.05),IC与射线质有强相关性(P=0.007)且随IC增大能量比降低.对于x方向上的Profile:(1)主射野区域(-200~200 mm),随IC增大Profile肩区明显呈规律性上升;IV从6.42 V增大到6.54 V时Profile无变化,IV=6.60 V时Profile肩区上升到最高点,之后Profile随IV增大而下降;随PFN增大Profile肩区明显呈规律性下降;(2)半影区(±200 mm以外的区域),IC、 IV和PFN对Profile都无影响.对于y方向上的Profile:(1)主射野区域(-20~20 mm),IC取5.40和5.46 V时在离轴距<16 mm区域内Profile才可见上升趋势,但整体上Profile肩区随IC增大而上升;IV和PFN对Profile无影响;(2)半影区(±20 mm以外区域),Profile随IV增大规律性下降,IC和PFN对Profile无影响.3个参数在主射野区域对Profile影响显著程度大小依次为IC、PFN和IV,半影区对Profile有影响的只有IV.结论 调节射线质时应以IC值为主,PFN作为辅助进行微调;调节Profile时主射野区域应以调节IC为主、IV为辅,半影区的调节只涉及到y方向 Profile,应调节IV.研究结果对射线质和Profile的QC具有指导性作用,能减少QC的盲目性,节省时间.
